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布魯克全新臺(tái)式D6 PHASER應(yīng)用報(bào)告(五)—?dú)堄鄳?yīng)力分析

更新時(shí)間:2024-07-10點(diǎn)擊次數(shù):944

殘余應(yīng)力是材料在經(jīng)過(guò)焊接、鑄造、成型、機(jī)械加工或薄膜沉積等過(guò)程中殘留在材料中的內(nèi)應(yīng)力。殘余應(yīng)力分析對(duì)于了解這些內(nèi)應(yīng)力如何影響部件的性能和使用壽命非常重要。此外,殘余應(yīng)力分析還可以確定特定的材料特性和失效機(jī)制,從而用于構(gòu)件和零件的設(shè)計(jì)。

傳統(tǒng)上,殘余應(yīng)力的測(cè)試只能在大型落地式衍射儀上進(jìn)行,臺(tái)式衍射儀通常用于簡(jiǎn)單的測(cè)試項(xiàng)目,比如物相分析。而D6 PHASER 是一款多功能臺(tái)式衍射儀,它不僅可以進(jìn)行常規(guī)的粉末衍射分析,還可以進(jìn)行薄膜測(cè)試(GID、XRR)、織構(gòu)和應(yīng)力測(cè)試、對(duì)分布函數(shù)測(cè)試(PDF)、透射測(cè)試、高低溫原位測(cè)試等,非常適合用于現(xiàn)代材料研究表征。

在本報(bào)告中,我們將介紹如何通過(guò)D6 PHASER臺(tái)式衍射儀進(jìn)行殘余應(yīng)力分析。

1、測(cè)試樣品

本報(bào)告中,測(cè)試樣品為基底上采用不同工藝沉積生成的薄膜。其中,第1種薄膜樣品在氪氣氛中通過(guò)磁控濺射方法生成,第2種薄膜樣品在氬氣氛中通過(guò) PVD方法生成。兩種薄膜的成分均為鎢,厚度約為200 nm。

2、測(cè)試參數(shù)

采用Cu靶測(cè)試,電壓和電流分別為40kV和30mA(1200W功率)。光路上,采用0.2 mm的發(fā)散狹縫和前后2.5度的索拉狹縫。探測(cè)器選擇高計(jì)數(shù)模式,開(kāi)口為5度。選擇多功能通用樣品臺(tái),可以實(shí)現(xiàn)樣品的傾斜和旋轉(zhuǎn),如圖1所示。

布魯克全新臺(tái)式D6 PHASER應(yīng)用報(bào)告(五)—?dú)堄鄳?yīng)力分析

▲圖1:多功能通用樣品臺(tái)

選擇鎢的高角度晶面進(jìn)行殘余應(yīng)力分析,因?yàn)楦呓嵌妊苌浞鍖?duì)晶面間距的變化具有高靈敏度,這里選擇(321)晶面(131度附近,2θ)。采用同傾法測(cè)試,傾斜角(Psi)從 -45度 到 +45度  (共測(cè)試17個(gè)點(diǎn)),如圖2所示。

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▲圖2:D6 PHASER殘余應(yīng)力分析


3、殘余應(yīng)力測(cè)試結(jié)果

3.1 無(wú)應(yīng)力樣品

首先測(cè)試無(wú)應(yīng)力樣品,來(lái)驗(yàn)證X射線衍射儀的殘余應(yīng)力測(cè)量性能是否合格。根據(jù) EN15305 標(biāo)準(zhǔn),對(duì)于無(wú)應(yīng)力鎢樣品,如果正應(yīng)力的測(cè)量值小于+/-31 MPa (不確定度:+/-31 MPa),而且剪切應(yīng)力的測(cè)量值小于+/-15.6 MPa(不確定度:+/-15.6 MPa),就認(rèn)為衍射儀是合格的,可以進(jìn)行殘余應(yīng)力分析。

圖3給出了鎢粉末的殘余應(yīng)力測(cè)試曲線及分析結(jié)果。經(jīng)分析可知,該樣品的正應(yīng)力為 -9.1+/- 2.7 MPa,剪切應(yīng)力為 -4.8 +/-0.5 MPa。無(wú)論正應(yīng)力還是剪切應(yīng)力,其測(cè)量值及不確定度,均在EN15305標(biāo)準(zhǔn)允許的范圍內(nèi),因此可以說(shuō)明D6 PHASER衍射儀進(jìn)行殘余應(yīng)力分析是合格的。

布魯克全新臺(tái)式D6 PHASER應(yīng)用報(bào)告(五)—?dú)堄鄳?yīng)力分析

▲圖3:鎢粉末(無(wú)應(yīng)力)的殘余應(yīng)力測(cè)試曲線(左圖)及分析結(jié)果(右圖)


3.2 薄膜樣品

圖4給出了第1種薄膜樣品的殘余應(yīng)力測(cè)試曲線及分析結(jié)果。經(jīng)分析可知,該樣品的正應(yīng)力為 -1258.4+/- 26.4 MPa,剪切應(yīng)力為 -8.1 +/-4.9 MPa??梢钥闯?,在氪氣中磁控濺射生成的薄膜樣品中呈現(xiàn)很強(qiáng)的壓應(yīng)力,將近1.3 GPa,然而剪切應(yīng)力只有-8.1 MPa。

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▲圖4:第1種薄膜樣品的殘余應(yīng)力測(cè)試曲線(左圖)及分析結(jié)果(右圖)

圖5給出了第2種薄膜樣品的殘余應(yīng)力測(cè)試曲線及分析結(jié)果。經(jīng)分析可知,該樣品的正應(yīng)力為 -1998.8+/- 53.5 MPa,剪切應(yīng)力為 -20.1 +/-10.0 MPa。相比氪氣中磁控濺射生成的鎢薄膜樣品,在氬氣氛中通過(guò) PVD方法生成的鎢薄膜樣品中壓應(yīng)力更大,達(dá)到了將近2.0 GPa,同時(shí),剪切應(yīng)力也有所提高。

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▲圖5:第2種薄膜樣品的殘余應(yīng)力測(cè)試曲線(左圖)及分析結(jié)果(右圖)


4、討論

以往的XRD殘余應(yīng)力測(cè)試,只能在大型落地式衍射儀上進(jìn)行;現(xiàn)在,借助多功能通用樣品臺(tái),即使是臺(tái)式衍射儀,布魯克的D6 PHASER衍射儀也可以完成殘余應(yīng)力測(cè)試。

此外,D6 PHASER還可以完成粉末測(cè)試、薄膜測(cè)試(GID和XRR)、織構(gòu)測(cè)試、對(duì)分布函數(shù)測(cè)試(PDF)、透射測(cè)試和高低溫原位測(cè)試等,后面我們會(huì)陸續(xù)介紹其相關(guān)應(yīng)用。

對(duì)于常規(guī)粉末測(cè)試,因其半徑短,D6 PHASER的測(cè)試強(qiáng)度甚至高于大型落地式衍射儀,可以極大地提高測(cè)試速度;無(wú)論是產(chǎn)品質(zhì)量控制,還是實(shí)驗(yàn)室材料研發(fā),D6 PHASER衍射儀都能滿足您的需求。

D6 PHASER臺(tái)式衍射儀提供2種功率選擇(600W和1200W),即使1200W的功率,也不需要外接水冷機(jī),靠?jī)?nèi)部冷卻已經(jīng)可以滿足要求。


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